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一种钕含量低硬磁性能高的磁性薄膜研制成功

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  • 发布时间:2020-07-14 15:31
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【概要描述】由日本国家材料科学研究院Kazuhire Hono博士领衔的课题组合成了一种新型磁性化合物,其钕含量比目前流行的钕铁硼低。 这种新型磁性化合物化学式为NdFe12N,钕含量17%,而钕铁硼的钕含量为27%,但前者的内禀硬磁性能高于后者。 尤其值得注意的是,这种新型磁性化合物的居里温度比钕铁硼高200度。 在以往稀土磁体研究中曾出现过化学式为NdFe11TiN的磁性化合物,钛虽然是非磁性的,但加入钛才能使该化合物保持稳定,但正因为含钛,该化合物的磁性不如钕铁硼,因而没有受到多大关注。由于该化合物不加钛不稳定,以前的研究工作均未成功。而本研究在不加钛的情况下成功制备出了这种化合物。 NdFe12Nx为ThMn12结构,合成步骤为:先在MgO(001)基质上沉积一层钨,再在其上生长NdFe12薄膜,然后对NdFe12薄膜进行氮化。其内禀硬磁性能:μOMs约为1.66 T, μOHa为8T, Tc为550摄氏度,全部超钕铁硼。 NdFe12薄膜是用溅射法制备的,其厚度可达350纳米。 该课题组下一步的方向是确立制备大量磁粉及块状磁体的技术路线。

一种钕含量低硬磁性能高的磁性薄膜研制成功

【概要描述】由日本国家材料科学研究院Kazuhire Hono博士领衔的课题组合成了一种新型磁性化合物,其钕含量比目前流行的钕铁硼低。 这种新型磁性化合物化学式为NdFe12N,钕含量17%,而钕铁硼的钕含量为27%,但前者的内禀硬磁性能高于后者。 尤其值得注意的是,这种新型磁性化合物的居里温度比钕铁硼高200度。 在以往稀土磁体研究中曾出现过化学式为NdFe11TiN的磁性化合物,钛虽然是非磁性的,但加入钛才能使该化合物保持稳定,但正因为含钛,该化合物的磁性不如钕铁硼,因而没有受到多大关注。由于该化合物不加钛不稳定,以前的研究工作均未成功。而本研究在不加钛的情况下成功制备出了这种化合物。 NdFe12Nx为ThMn12结构,合成步骤为:先在MgO(001)基质上沉积一层钨,再在其上生长NdFe12薄膜,然后对NdFe12薄膜进行氮化。其内禀硬磁性能:μOMs约为1.66 T, μOHa为8T, Tc为550摄氏度,全部超钕铁硼。 NdFe12薄膜是用溅射法制备的,其厚度可达350纳米。 该课题组下一步的方向是确立制备大量磁粉及块状磁体的技术路线。

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由日本国家材料科学研究院Kazuhire Hono博士领衔的课题组合成了一种新型磁性化合物,其钕含量比目前流行的钕铁硼低。 这种新型磁性化合物化学式为NdFe12N,钕含量17%,而钕铁硼的钕含量为27%,但前者的内禀硬磁性能高于后者。 尤其值得注意的是,这种新型磁性化合物的居里温度比钕铁硼高200度。 在以往稀土磁体研究中曾出现过化学式为NdFe11TiN的磁性化合物,钛虽然是非磁性的,但加入钛才能使该化合物保持稳定,但正因为含钛,该化合物的磁性不如钕铁硼,因而没有受到多大关注。由于该化合物不加钛不稳定,以前的研究工作均未成功。而本研究在不加钛的情况下成功制备出了这种化合物。 NdFe12Nx为ThMn12结构,合成步骤为:先在MgO(001)基质上沉积一层钨,再在其上生长NdFe12薄膜,然后对NdFe12薄膜进行氮化。其内禀硬磁性能:μOMs约为1.66 T, μOHa为8T, Tc为550摄氏度,全部超钕铁硼。 NdFe12薄膜是用溅射法制备的,其厚度可达350纳米。 该课题组下一步的方向是确立制备大量磁粉及块状磁体的技术路线。

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